Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(4)

Dokumenty

218170

Sigma-Aldrich

Ethynyltrimethylsilane

98%

Synonim(y):

Trimethylsilylacetylene

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(4)

About This Item

Wzór liniowy:
(CH3)3SiC≡CH
Numer CAS:
1066-54-2
Masa cząsteczkowa:
98.22
Beilstein:
906752
Numer MDL:
MFCD00008569
Kod UNSPSC:
12352100
Identyfikator substancji w PubChem:
24853048
NACRES:
NA.22

ciśnienie pary

4.18 psi ( 20 °C)

Próba

98%

Postać

liquid

współczynnik refrakcji

n20/D 1.388 (lit.)

tw

53 °C (lit.)

gęstość

0.709 g/cm3 (lit.)

temp. przechowywania

2-8°C

ciąg SMILES

C[Si](C)(C)C#C

InChI

1S/C5H10Si/c1-5-6(2,3)4/h1H,2-4H3

Klucz InChI

CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Laser-induced polymerization of gaseous ethynyltrimethylsilane was used for efficient chemical vapour deposition of polycarbosilane films. Ethynyltrimethylsilane acts as substrate for nickel-catalyzed cross-coupling with benzonitriles.

Zastosowanie

Ethynyltrimethylsilane was used in:
  • microwave-assisted, one-pot, three-step Sonogashira cross-coupling-desilylation-cycloaddition reaction for the preparation of 1,4-disubstituted 1,2,3-triazoles
  • synthesis of poly(ethynyltrimethylsilane) containing Pd (II) coordination sites
  • pyrazole synthesis via 1,3-dipolar cycloaddition of diazo compounds to acetylenes
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H315,H319

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Irrit. 2

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 1

Temperatura zapłonu (°F)

-29.2 °F

Temperatura zapłonu (°C)

-34 °C

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Atmospheric pressure chemical vapour deposition of polycarbosilane films via UV laser-induced polymerization of ethynyltrimethylsilane.
Pola J, et al.
Surface and Coating Tech., 149(2), 129-134 (2002)
Tetrahedron Letters, 45, 4989-4992 (2004)
Frédéric Friscourt et al.
Organic letters, 12(21), 4936-4939 (2010-10-15)
A microwave-assisted, one-pot, three-step Sonogashira cross-coupling-desilylation-cycloaddition sequence was developed for the convenient preparation of 1,4-disubstituted 1,2,3-triazoles starting from a range of halides, acyl chlorides, ethynyltrimethylsilane, and azides.
Francisco J Caparrós et al.
Molecules (Basel, Switzerland), 25(4) (2020-02-26)
A new 2,7,10,15-tetraethynyldibenzo[g,p]chrysene ligand (1) and two tetranuclear gold(I) derivatives containing PPh3 (3) and PMe3 (4) phosphines were synthesized and characterized by 1H and 31P NMR, IR spectroscopy, and high-resolution mass spectrometry. The compounds were studied in order to analyze
Heterocycles, 68, 1961-1961 (2006)
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Reagents for C–C Bond Formation

We carry a large variety of electrophiles and nucleophiles that are widely used in C–C bond-forming reactions. This group of products contains many organometallic reagents as well as commonly-used alkylating and acylating reagents.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej