Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Key Documents

Inne dokumenty

38385

Sigma-Aldrich

Dichlorodiisopropylsilane

≥97.0% (GC)

Synonim(y):

Diisopropyldichlorosilane

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór empiryczny (zapis Hilla):
C6H14Cl2Si
Numer CAS:
7751-38-4
Masa cząsteczkowa:
185.17
Beilstein:
1736244
Numer MDL:
MFCD00054895
Kod UNSPSC:
12352001
Identyfikator substancji w PubChem:
329755681
NACRES:
NA.22

Próba

≥97.0% (GC)

Postać

liquid

współczynnik refrakcji

n20/D 1.444

tw

66 °C/27 mmHg (lit.)

gęstość

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

ciąg SMILES

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

Klucz InChI

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Powiązane kategorie

Inne uwagi

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H226,H314

Klasyfikacja zagrożeń

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

109.4 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

43 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej