Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Kluczowe dokumenty

Wyświetl całą dokumentację

698431

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)

99.9% trace metals basis

Synonim(y):

Tin(IV) dimethylamide

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór liniowy:
[(CH3)2N]4Sn
Numer CAS:
1066-77-9
Masa cząsteczkowa:
295.01
Numer MDL:
MFCD00014860
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
329761254
NACRES:
NA.23

Poziom jakości

100

Próba

99.9% trace metals basis

Formularz

liquid

przydatność reakcji

core: tin

ciąg SMILES

CN(C)[Sn](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Klucz InChI

WHXTVQNIFGXMSB-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Atomic number of base material: 50 Tin
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H302 + H312 + H332,H314

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 4 Oral - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

18.0 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

-7.8 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBP0562
SHBM6762
SHBM1031
SHBL0791
SHBK8559

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 1

1 of 1

Tetravinyltin 97%

Sigma-Aldrich

328669

Tetravinyltin

Sarai García-García et al.
Chemical science, 10(7), 2171-2178 (2019-03-19)
Atomic layer deposition is a chemical deposition technology that provides ultimate control over the conformality of films and their thickness, even down to Ångström-scale precision. Based on the marked superficial character and gas phase process of the technique, metal sources
Hao-Cheng Yang et al.
ACS nano, 12(8), 8678-8685 (2018-08-15)
Crude oil fouling on membrane surfaces is a persistent, crippling challenge in oil spill remediation and oilfield wastewater treatment. In this research, we present how a nanosized oxide coating can profoundly affect the anti-crude-oil property of membrane materials. Select oxide
Yasemin Saygili et al.
Chemphyschem : a European journal of chemical physics and physical chemistry, 19(11), 1363-1370 (2018-04-27)
In perovskite solar cells (PSCs), the most commonly used hole transport material (HTM) is spiro-OMeTAD, which is typically doped by metalorganic complexes, for example, based on Co, to improve charge transport properties and thereby enhance the photovoltaic performance of the
Benjamin Lamm et al.
ChemSusChem, 12(9), 1916-1924 (2018-12-21)
Bismuth vanadate (BiVO4 ) is promising for solar-assisted water splitting. The performance of BiVO4 is limited by charge separation for >70 nm films or by light harvesting for <700 nm films. To resolve this mismatch, host-guest architectures use thin film coatings on

Produkty

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej