Przejdź do zawartości
Merck

663301

Sigma-Aldrich

Trimethylaluminum

packaged for use in deposition systems

Synonim(y):

Aluminum trimethanide, TMA

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Wzór liniowy:
(CH3)3Al
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
72.09
Beilstein:
3587197
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23

ciśnienie pary

69.3 mmHg ( 60 °C)

Poziom jakości

opis

heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (Dimer)

Postać

liquid

przydatność reakcji

core: aluminum

tw

125-126 °C (lit.)
127 °C/760 mmHg
20 °C/8 mmHg
56 °C/50 mmHg

mp

15 °C (lit.)

gęstość

0.752 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

C[Al](C)C

InChI

1S/3CH3.Al/h3*1H3;

Klucz InChI

JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Trimethylaluminum ismainly used in the industrial production of polyethylene and other syntheticpolymers, where it is used as a co-catalyst for the polymerization reaction. Itis also used as a precursor to produce inorganic aluminum compounds, includingalumina and various zeolites.

Zastosowanie

Trimethylaluminum can be used as:
  • A chemical vapor deposition precursor to fabricate PbSe quantum dot solids for optoelectronic devices.
  • An aluminum precursor for the flame synthesis of alumina nanofibers.
  • A reagent for efficient synthesis of allenes.
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

FlameCorrosion

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Zagrożenia dodatkowe

Kod klasy składowania

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

nwg

Temperatura zapłonu (°F)

No data available

Temperatura zapłonu (°C)

No data available

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Mahtab Farzin et al.
Pathology, 47(4), 302-307 (2015-05-06)
BRCA1-associated protein 1 (BAP1) is a tumour suppressor gene frequently inactivated in mesothelioma, rarely also in association with germline mutation. BAP1 mutations have been associated with improved prognosis and distinct clinicopathological features. We sought to determine the clinicopathological significance of
Alexander C Kozen et al.
ACS nano, 9(6), 5884-5892 (2015-05-15)
Lithium metal is considered to be the most promising anode for next-generation batteries due to its high energy density of 3840 mAh g(-1). However, the extreme reactivity of the Li surface can induce parasitic reactions with solvents, contamination, and shuttled
J L L Robinson et al.
Oncogene, 33(50), 5666-5674 (2013-12-03)
Castration-resistant prostate cancer (CRPC) continues to pose a significant clinical challenge with new generation second-line hormonal therapies affording limited improvement in disease outcome. As the androgen receptor (AR) remains a critical driver in CRPC, understanding the determinants of its transcriptional
Shahram Khosravi et al.
The Journal of investigative dermatology, 135(5), 1358-1367 (2015-01-07)
Human cutaneous melanoma is a devastating skin cancer because of its invasive nature and high metastatic potential. We used tissue microarray to study the role of human eukaryotic translation initiation factor 4E (eIF4E) in melanoma progression in 448 melanocytic lesions
J Stebbing et al.
Oncogene, 34(16), 2103-2114 (2014-06-10)
Kinase suppressor of Ras-1 (KSR1) facilitates signal transduction in Ras-dependent cancers, including pancreatic and lung carcinomas but its role in breast cancer has not been well studied. Here, we demonstrate for the first time it functions as a tumor suppressor

Produkty

ALD — A Versatile Tool for Nanostructuring

Osadzanie warstw atomowych (ALD) prezentuje innowacje w zakresie syntezy nowych struktur, osadzania selektywnego obszarowo, osadzania w niskich temperaturach i nie tylko.

Molecular Layer Deposition of Organic and Hybrid Organic-Inorganic Polymers

Osadzanie warstw atomowych spełnia różne potrzeby, w tym miniaturyzację urządzeń półprzewodnikowych i powlekanie nanocząstek.

Zobacz wszystko

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej