Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(2)

Key Documents

View All Documentation

469858

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV)

99.999% trace metals basis

Synonim(y):

TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(2)

About This Item

Wzór liniowy:
[(CH3)2N]4Ti
Numer CAS:
3275-24-9
Masa cząsteczkowa:
224.17
Numer WE:
221-904-3
Numer MDL:
MFCD00014861
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24870618
NACRES:
NA.23

Poziom jakości

200

Próba

99.999% trace metals basis

Postać

liquid

przydatność reakcji

core: titanium

tw

50 °C/0.5 mmHg (lit.)

gęstość

0.947 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Klucz InChI

MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Please inquire for bulk quantity, pricing, and packaging options.

Zastosowanie

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) is a precursor to titanium nitride (TiN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD)and titanium dioxide thin films by atomic layer deposition (ALD).TDMAT undergoes exothermal reaction with excess cyclopentadiene to yield tris(dimethylamido)(η5-cyclopentadienyl)titanium(IV).
This page may contain text that has been machine translated.

wyposażenie dodatkowe

Numer produktu
Opis
Cennik

Piktogramy

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H260,H314

Klasyfikacja zagrożeń

Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Zagrożenia dodatkowe

EUH014

Kod klasy składowania

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

-22.0 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

-30 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBP1947
SHBL6315
SHBL2751
SHBH9716
80197MM

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 2

1 of 2

Titanium(IV) isopropoxide packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

687502

Titanium(IV) isopropoxide

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV) ≥99.99% trace metals basis

Sigma-Aldrich

553131

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV)

Tianshuo Zhao et al.
Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America, 118(7) (2021-02-10)
Semiconductors of narrow bandgaps and high quantum efficiency have not been broadly utilized for photocatalytic coevolution of H2 and O2 via water splitting. One prominent issue is to develop effective protection strategies, which not only mitigate photocorrosion in an aqueous
Microstructure and elastic properties of atomic layer deposited TiO 2 anatase thin films.
Borgese L, et al.
Acta Materialia, 59(7), 2891-2900 (2011)
Young modulus and Poisson ratio measurements of TiO 2 thin films deposited with atomic layer deposition.
Borgese L, et al.
Surface and Coatings Technology, 206(8), 2459-2463 (2012)
Improving performance via blocking layers in dye-sensitized solar cells based on nanowire photoanodes.
Li L, et al.
ACS Applied Materials & Interfaces, 7(23), 12824-12831 (2015)
Chemistry of Materials, 8, 2712-2712 (1996)
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

Titanium dioxide (TiO2) is an important n-type semiconducting material that shows interesting characteristics such as photoswitchable surface wettability, high photocatalytic activity, bistable electrical resistance states and high electron drift mobility.

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells: Interface Engineering by Atomic Layer Deposition

Since the demonstration of the first practical solar cell 60 years ago, research on novel materials, improved solar cell design and structure, and innovative manufacturing processes have all contributed to a continuous increase in the efficiency of photovoltaic (PV) devices.

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Zobacz wszystko

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej