Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Kluczowe dokumenty

Wyświetl całą dokumentację

679208

Sigma-Aldrich

Methyltrichlorosilane

deposition grade, ≥98% (GC), ≥99.99% (as metals)

Synonim(y):

Trichloro(methyl)silane

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór liniowy:
CH3SiCl3
Numer CAS:
75-79-6
Masa cząsteczkowa:
149.48
Beilstein:
1361381
Numer WE:
200-902-6
Numer MDL:
MFCD00000481
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24885475
NACRES:
NA.23

klasa czystości

deposition grade

Poziom jakości

100

gęstość pary

5.2 (vs air)

ciśnienie pary

150 mmHg ( 25 °C)

Próba

≥98% (GC)
≥99.99% (as metals)

Postać

liquid

temp. samozapłonu

>760 °F

granice wybuchowości

11.9 %

współczynnik refrakcji

n20/D 1.411 (lit.)

tw

66 °C (lit.)

gęstość

1.273 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

C[Si](Cl)(Cl)Cl

InChI

1S/CH3Cl3Si/c1-5(2,3)4/h1H3

Klucz InChI

JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H302 + H312,H314,H331,H335

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1A - STOT SE 3

Organy docelowe

Respiratory system

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 1

Temperatura zapłonu (°F)

46.4 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

8 °C - closed cup

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBF8026V
SHBF6342V
SHBF2673V
SHBD5576V
SHBD1841V

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

W H Mullen et al.
Clinica chimica acta; international journal of clinical chemistry, 157(2), 191-198 (1986-06-15)
An enzyme electrode is described based upon the enzyme lactate oxidase (EC 1.1.3.2) coupled to an H2O2 sensor. Use of an organosilane-treated microporous membrane over the enzyme layer, allows responses linear to 18 mmol/l L-lactate with response times of 1-3
Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 111(8), 1462-1474 (2007-02-06)
Structures and energies of the gas-phase species produced during and after the various unimolecular decomposition reactions of methyltrichlorosilane (MTS) with the presence of H2 carrier gas were determined using second-order perturbation theory (MP2). Single point energies were obtained using singles
Ana Gisela Cunha et al.
Journal of colloid and interface science, 344(2), 588-595 (2010-02-05)
This work describes a very simple, rapid, and efficient approach to the hydrophobization and lipophobization of cellulose fibers through their reaction with gaseous trichloromethylsilane (TCMS). The characterization of the modified surface involved FTIR-ATR and solid-state (29)Si NMR spectroscopy, scanning electron
Zhengfang Xie et al.
Journal of nanoscience and nanotechnology, 7(2), 647-652 (2007-04-25)
Silicon carbide nanotubes (SiCNTs) were directly synthesized by chemical vapor deposition (CVD) in the paper. Methyltrichlorosilane (MTS) was selected as the SiC gaseous source and, ferrocence and thiophene as the catalyst and the cocatalyst, respectively. The influences of reaction temperature
Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 114(6), 2384-2392 (2010-01-29)
The rate constants for the gas-phase reactions in the silicon carbide chemical vapor deposition of methyltrichlorosilane (Ge, Y. B.; Gordon, M. S.; Battaglia, F.; Fox, R. O. J. Phys. Chem. A 2007, 111, 1462.) were calculated. Transition state theory was
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Sol-Gel Science for Ceramic Materials
Technologia zol-żel dla materiałów ceramicznych

Chemia reaktywnych silikonów: Koncentracja na produkcji czystego krzemu, polimeryzacji i kontrolowanych reakcjach stereochemicznych.

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Bio-Inspired “Green” Synthesis of Nanomaterials and their Applications

Silica is a very popular inorganic nanomaterial used in a wide range of applications including fillers for rubber, catalyst supports, separation media, carriers in food and agriculture, and abrasive/anticaking agents in cosmetics. It is also widely believed to be an important material for biomedical applications for following reasons.

Zobacz wszystko

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej