Wszystkie zdjęcia(3)
Key Documents
296066
Lithium dimethylamide
95%
Synonim(y):
Lithiodimethylamide
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
About This Item
Wzór liniowy:
(CH3)2NLi
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
51.02
Beilstein:
3618233
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352111
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.22
Polecane produkty
Poziom jakości
Próba
95%
Postać
solid
ciąg SMILES
[Li]N(C)C
InChI
1S/C2H6N.Li/c1-3-2;/h1-2H3;/q-1;+1
Klucz InChI
YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Zastosowanie
Lithium dimethylamide is used as a reagent in the synthesis of boron-nitrogen heterocycles and 2,2′?diborabiphenyl. It is a deprotecting agent which is employed in demethylation of bis(imino)pyridine ferrous dichloride for synthesizing ferrous amide-ate complexes.
This page may contain text that has been machine translated.
Hasło ostrzegawcze
Danger
Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia
Zwroty wskazujące środki ostrożności
Klasyfikacja zagrożeń
Pyr. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Kod klasy składowania
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 3
Środki ochrony indywidualnej
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
2, 2′-Diborabiphenyl: A Lewis Acid Analogue of 2, 2′-Bipyridine.
Emslie DJH, et al.
Angewandte Chemie (International Edition in English), 115(11), 1290-1293 (2003)
Bis (imino) pyridine ligand deprotonation promoted by a transient iron amide.
Bouwkamp MW, et al.
Inorganic Chemistry, 45(1), 2-4 (2006)
Triphenylene analogues with B2N2C2 cores: synthesis, structure, redox behavior, and photophysical properties.
Jaska CA, et al.
Journal of the American Chemical Society, 128(33), 10885-10896 (2006)
Richard O'Donoghue et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 46(47), 16551-16561 (2017-11-22)
Herein we describe an efficient low temperature (60-160 °C) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process for gallium oxide (Ga
Lukas Mai et al.
Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany), 25(31), 7489-7500 (2019-03-15)
New precursor chemistries for the atomic layer deposition (ALD) of aluminium oxide are reported as potential alternatives to the pyrophoric trimethylaluminium (TMA) which is to date a widely used Al precursor. Combining the high reactivity of aluminium alkyls employing the
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej