Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Key Documents

Inne dokumenty

469947

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamido)aluminum(III)

Synonim(y):

Hexakis(dimethylamido)dialuminum, Tris(dimethylamino)alane dimer

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór liniowy:
Al(N(CH3)2)3
Numer CAS:
32093-39-3
Masa cząsteczkowa:
159.21
Numer MDL:
MFCD00269811
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24870625
NACRES:
NA.23

Postać

solid

przydatność reakcji

core: aluminum

mp

82-84 °C (lit.)

gęstość

0.865 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3

Klucz InChI

JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Atomic number of base material: 13 Aluminum

Zastosowanie

Tris(dimethylamido)aluminum(III) may be used as a precursor to aluminum nitride (AlN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD).
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H260,H314

Klasyfikacja zagrożeń

Skin Corr. 1B - Water-react 1

Zagrożenia dodatkowe

EUH014

Kod klasy składowania

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

70.0 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

21.1 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 1

1 of 1

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Sigma-Aldrich

682101

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Tris (dimethylamido) aluminum (III): An overlooked atomic layer deposition precursor.
Buttera SC, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 35(1), 01B128-01B128 (2017)

Produkty

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej