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Sigma-Aldrich

Aldrich® Negative Photoresist Kit I

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About This Item

Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

temperatura de armazenamento

2-8°C

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Descrição geral

Aldrich® Negative Photoresist Kit I consists of materials for photolithography. The photoresist can be spin coated on the glass substrate for the formation of electrode arrays. The kit also provides masking and patterning on the glass surface.

Aplicação

Aldrich® Negative Photoresist Kit I has been used in the fabrication of microelectrodes by photolithography. It can also be used to fabricate the droplet-based microfluidic device, microfluidic chips, glass optical waveguides, and integrated grating couplers.

Informações legais

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

Componentes do kit também disponíveis separadamente

Nº do produto
Descrição
SDS
  • 651761Negative resist remover I 250 mLSDS
  • 651788Negative resist developer I 250 mLSDS
  • 651796Negative photoresist I 100 mLSDS
  • 651974Negative resist thinner I 100 mLSDS

Palavra indicadora

Danger

Classificações de perigo

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Repr. 1B - Skin Corr. 1 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

Órgãos-alvo

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Código de classe de armazenamento

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

Ponto de fulgor (°F)

Not applicable

Ponto de fulgor (°C)

Not applicable

Certificados de análise (COA)

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