666610

Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)

packaged for use in deposition systems

• Synonim(y): TDMAH, Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)
• Wzór liniowy: [(CH₃)₂N]₄Hf
• Numer CAS: 19782-68-4
• Masa cząsteczkowa: 354.79
• Numer MDL: MFCD01862473
• Kod UNSPSC: 12352103
• Identyfikator substancji w PubChem: 24884811
• NACRES: NA.23

Właściwości

• Poziom jakości: 100
• Próba: ≥99.99% (trace metals analysis)
• Formularz: low-melting solid
• przydatność reakcji: core: hafnium
• mp: 26-29 °C (lit.)
• gęstość: 1.098 g/mL at 25 °C
• ciąg SMILES: CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
• InChI: 1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
• Klucz InChI: ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

Opis

Opis ogólny

Alkyl amides of Hafnium provide a convenient and effective atomic layer deposition precursor to smooth and and amorphous hafnium oxide thin films.

Zastosowanie

Precursors Packaged for Depositions Systems

Used as precursor for atomic layer deposition of Hafnium Oxide nanolaminates, which are used as a reploacement for Silicon oxide in semiconductor devices.

Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Informacja o środkach bezpieczeństwa

• Piktogramy: GHS02,GHS05
• Hasło ostrzegawcze: Danger
• Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia: H228,H261,H314
• Zwroty wskazujące środki ostrożności: P210 - P231 + P232 - P280 - P305 + P351 + P338 - P370 + P378 - P402 + P404
• Klasyfikacja zagrożeń: Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
• Zagrożenia dodatkowe: EUH014
• Kod klasy składowania: 4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
• Klasa zagrożenia wodnego (WGK): WGK 3
• Temperatura zapłonu (°F): 109.4 °F - closed cup
• Temperatura zapłonu (°C): 43 °C - closed cup
• Środki ochrony indywidualnej: Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges