Key Documents
773972
Yttrium sputtering target
diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.9% trace metals basis
Synonim(y):
Yttrium
About This Item
Polecane produkty
Poziom jakości
Próba
99.9% trace metals basis
Postać
solid
przydatność reakcji
core: yttrium
rezystywność
57 μΩ-cm, 20°C
śr. × grubość
2.00 in. × 0.25 in.
tw
3338 °C (lit.)
mp
1522 °C (lit.)
gęstość
4.469 g/mL at 25 °C (lit.)
ciąg SMILES
[Y]
InChI
1S/Y
Klucz InChI
VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Zastosowanie
Yttrium sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing thin films also find applications as thermal barrier and protective coatings, example in thermoelectric devices.
Kod klasy składowania
11 - Combustible Solids
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 3
Temperatura zapłonu (°F)
Not applicable
Temperatura zapłonu (°C)
Not applicable
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Certyfikaty analizy (CoA)
Nie widzisz odpowiedniej wersji?
Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Produkty
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Spin-based electronic (spintronic) devices offer significant improvement to the limits of conventional charge-based memory and logic devices which suffer from high power usage, leakage current, performance saturation, and device complexity.
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej