Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Key Documents

Inne dokumenty

767506

Sigma-Aldrich

Titanium

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.995% trace metals basis

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór empiryczny (zapis Hilla):
Ti
Numer CAS:
7440-32-6
Masa cząsteczkowa:
47.87
Numer WE:
231-142-3
Numer MDL:
MFCD00011264
Kod UNSPSC:
12352300
Identyfikator substancji w PubChem:
329767320
NACRES:
NA.23

Poziom jakości

100

Próba

99.995% trace metals basis

Postać

solid

temp. samozapłonu

860 °F

przydatność reakcji

core: titanium

rezystywność

42.0 μΩ-cm, 20°C

śr. × grubość

2.00 in. × 0.25 in.

tw

3287 °C (lit.)

mp

1660 °C (lit.)

gęstość

4.5 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

[Ti]

InChI

1S/Ti

Klucz InChI

RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N

Powiązane kategorie

Zastosowanie

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. The extreme miniaturization of components in the semiconductor and electronics industry requires high purity sputtering targets for thin film deposition.
This page may contain text that has been machine translated.

Kod klasy składowania

11 - Combustible Solids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

nwg

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Kostantinidis, S.; et al.
The European Physical Journal - Applied Physics, 56, 24002/1-24002/1 (2011)
Helmersson; U.; et al.
Thin Solid Films, 513, 1-1 (2006)
A Kurbad et al.
International journal of computerized dentistry, 16(2), 125-141 (2013-08-13)
This article presents two novel options for lithium-disilicate restorations supported by single-tooth implants. By using a Ti-Base connector, hybrid abutments and hybrid abutment crowns can be fabricated for different implant systems. The latter option in particular is an interesting new
J H Kim et al.
Journal of nanoscience and nanotechnology, 13(7), 4601-4607 (2013-08-02)
Nanocytalline TiN films were deposited on non-alkali glass and Al substrates by reactive DC magnetron sputtering (DCMS) with an electromagnetic field system (EMF). The microstructure and corrosion resistance of the TiN-coated Al substrates were estimated by X-ray diffraction (XRD), scanning
Jinho Shin et al.
Journal of nanoscience and nanotechnology, 13(8), 5807-5810 (2013-07-26)
In this study, hydroxyapatite (HA) was coated on anodized titanium (Ti) surfaces through radio frequency magnetron sputtering in order to improve biological response of the titanium surface. All the samples were blasted with resorbable blasting media (RBM). RBM-blasted Ti surface
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Recent Progress in Spintronic Materials

Spin-based electronic (spintronic) devices offer significant improvement to the limits of conventional charge-based memory and logic devices which suffer from high power usage, leakage current, performance saturation, and device complexity.

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej