Przejdź do zawartości
Merck

651842

Sigma-Aldrich

Gold etchant, nickel compatible

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

gęstość pary

9 (vs air)

Poziom jakości

ciśnienie pary

0.3 mmHg ( 15 °C)

skład

volatiles, 50-80%

bp

100 °C/1 atm

rozpuszczalność

H2O: miscible at 20 °C

Opis ogólny

Nickel compatible gold etchant is an etching solution that can be used in the removal of the gold layer from the surface. Compatibility of gold etchants with nickel allows it to be utilized in applications where nickel is used as a dominant material in the fabrication of micro-electro-mechanical systems (MEMS).

Zastosowanie

Elective general-purpose etchant for gold. Compatible with negative and positive photoresists.

Cechy i korzyści

Etching readily controlled with minimum undercutting. Room temperature operated. Cyanide-free, no attack of nickel films.
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Piktogramy

Health hazard

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Zwroty wskazujące środki ostrożności

Klasyfikacja zagrożeń

STOT RE 1 Oral

Organy docelowe

Thyroid

Kod klasy składowania

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 1

1 of 1

Determination of young's modulus of electrochemically co-deposited Ni-Al2O3 nanocomposite
Wei X, et al.
Materials Letters, 62(12-13), 1916-1918 (2008)
A monolithic micro-optical interferometer deep etched into fused silica
Weigel C, et al.
Microelectronic Engineering, 174(5), 40-45 (2017)
Micro-elastometry on whole blood clots using actuated surface-attached posts (ASAPs)
Judith RM, et al.
Lab on a chip, 15(5), 1385-1393 (2015)

Protokoły

Negative Photoresist Procedure

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej