Wszystkie zdjęcia(3)
Kluczowe dokumenty
342890
Silicon dioxide
−325 mesh, 99.5% trace metals basis
Synonim(y):
Cristobalite, Quartz, Sand, Silica
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
About This Item
Wzór liniowy:
SiO2
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
60.08
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352303
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23
Polecane produkty
Próba
99.5% trace metals basis
Formularz
powder
współczynnik refrakcji
n20/D 1.544 (lit.)
wielkość cząstki
−325 mesh
mp
1610 °C (lit.)
gęstość
2.6 g/mL at 25 °C (lit.)
Zastosowanie
battery manufacturing
ciąg SMILES
O=[Si]=O
InChI
1S/O2Si/c1-3-2
Klucz InChI
VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Zastosowanie
SiO2 is majorly used as a substrate material with excellent thermo-mechanical properties which can be used in a variety of applications which include: vapor deposition, phase deposition, atomic force microscopy probes(AFM), spin coating, electronic based devices.
Inne uwagi
May contain adsorbed H2O and CO2 which is removable by calcining at >900°C
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
Kod klasy składowania
13 - Non Combustible Solids
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
nwg
Temperatura zapłonu (°F)
Not applicable
Temperatura zapłonu (°C)
Not applicable
Środki ochrony indywidualnej
dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
Electrical and optical properties of ZnO transparent conducting films by the sol-gel method.
Lee J, et al.
Journal of Crystal Growth, 247(1-2), 119-125 (2003)
Growth model of bamboo-shaped carbon nanotubes by thermal chemical vapor deposition.
Lee CJ and Park J
Applied Physics Letters, 77(21), 3397-3399 (2000)
Measurement of the adhesion force between carbon nanotubes and a silicon dioxide substrate.
Whittaker JD, et al.
Nano Letters, 6(5), 953-957 (2006)
Oxygen-aided synthesis of polycrystalline graphene on silicon dioxide substrates.
Chen J, et al.
Journal of the American Chemical Society, 133(44), 17548-17551 (2011)
The effect of calcination temperature on the surface microstructure and photocatalytic activity of TiO2 thin films prepared by liquid phase deposition.
Yu J, et al.
The Journal of Physical Chemistry B, 107(50), 13871-13879 (2003)
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej