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920134

Sigma-Aldrich

Graphene, monolayer film

6 in diameter, CVD on silicon wafer, large grain, avg. no. of layers, 1

Sinônimo(s):

Roll-to-Roll graphene

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About This Item

Fórmula empírica (Notação de Hill):
C
Número CAS:
Peso molecular:
12.01
Código UNSPSC:
12141908
NACRES:
NA.23

product name

R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer, 6 in diameter, avg. no. of layers, 1

Nível de qualidade

descrição

Growth method: roll-to-roll CVD
Wafer: SiO2 (300nm) Si
Number of layer: Monolayer
Raman intensity 2D/G: ≥1.5

Características

avg. no. of layers 1

resistência de folha

280 Ω/sq ±10%

tamanho

110 μm × 110 μm ± 10%, grain size

cobertura de superfície

surface coverage >98%

transmitância

>97%

propriedades semicondutoras

(mobility>3000 cm2/V·s) (Hall effect measurements)

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Descrição geral

Roll-to-roll, high-quality, monolayer CVD graphene with large grain size (~110μm^2) on 6 inch silicon wafer.

Aplicação

Our Roll-to-Roll CVD graphene products are true monolayer high quality graphene, fabricated inside a Cleanroom, heavily monitored and QC to assure high reproducibility.
The roll-to-roll process allows continuous, large scale graphene production.

This large grain size graphene product on silicon wafer is ready to use, helps you minimize process time, and increase success rate. This product with low sheet resistance would enable unmatched reproducibility and allow high performance for CVD graphene based FET, CVD graphene based sensors, and heterostructure based micro/nano electronics.

Application examples:
  • Ultrafast Transistor
  • Optical devices
  • Bio/Gas Sensor
  • Transparent Electrode
  • Flexible Display
  • Smart Coating
  • Thermal management

Atenção

Be cautious not to drop
Keep away from contamination, heat, dust and flame etc.

Armazenamento e estabilidade

Avoid direct sun light, avoid high temperature, avoid high humidity, and avoid dust.

Informações legais

Product of LG Electronics, R&D use only

Código de classe de armazenamento

11 - Combustible Solids

Classe de risco de água (WGK)

WGK 3


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Integrating graphene into semiconductor fabrication lines.
Daniel Neumaier et al.
Nature materials, 18(6), 525-529 (2019-05-23)
Bing Deng et al.
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.), 31(9), e1800996-e1800996 (2018-10-03)
Chemical vapor deposition (CVD) is considered to be an efficient method for fabricating large-area and high-quality graphene films due to its excellent controllability and scalability. Great efforts have been made to control the growth of graphene to achieve large domain

Nossa equipe de cientistas tem experiência em todas as áreas de pesquisa, incluindo Life Sciences, ciência de materiais, síntese química, cromatografia, química analítica e muitas outras.

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