759414
Tetraetil ortossilicato
packaged for use in deposition systems
Sinônimo(s):
TEOS, Tetraetil éster de ácido ortosilícico, Tetraetoxissilano
About This Item
Produtos recomendados
densidade de vapor
7.2 (vs air)
Nível de qualidade
pressão de vapor
<1 mmHg ( 20 °C)
Ensaio
≥99.5% (GC)
forma
liquid
índice de refração
n20/D 1.382 (lit.)
pb
168 °C (lit.)
densidade
0.933 g/mL at 20 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
InChI
1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
chave InChI
BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
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Aplicação
- Si oxide
- Oxycarbide
- Doped silicate
- Silanol
- Siloxane polymer
- Organosilicon thin films
The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
Palavra indicadora
Warning
Frases de perigo
Declarações de precaução
Classificações de perigo
Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
Órgãos-alvo
Respiratory system
Código de classe de armazenamento
3 - Flammable liquids
Classe de risco de água (WGK)
WGK 1
Ponto de fulgor (°F)
113.0 °F - closed cup
Ponto de fulgor (°C)
45 °C - closed cup
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