759562
Tris(dimethylamino)silane
packaged for use in deposition systems
Sinônimo(s):
Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS
About This Item
Produtos recomendados
Ensaio
≥99.9% (GC)
forma
liquid
pb
142 °C (lit.)
pf
−90 °C (lit.)
densidade
0.838 g/mL at 25 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
chave InChI
TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N
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Categorias relacionadas
Descrição geral
Aplicação
- As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
- As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.
Palavra indicadora
Danger
Frases de perigo
Declarações de precaução
Classificações de perigo
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Perigos de suplementos
Código de classe de armazenamento
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
Classe de risco de água (WGK)
WGK 3
Ponto de fulgor (°F)
16.0 - 32.0 °F - closed cup
Ponto de fulgor (°C)
-8.89 - 0.00 °C - closed cup
Certificados de análise (COA)
Busque Certificados de análise (COA) digitando o Número do Lote do produto. Os números de lote e remessa podem ser encontrados no rótulo de um produto após a palavra “Lot” ou “Batch”.
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