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Merck
  • A facile two-step dipping process based on two silica systems for a superhydrophobic surface.

A facile two-step dipping process based on two silica systems for a superhydrophobic surface.

Chemical communications (Cambridge, England) (2011-08-30)
Xiaoguang Li, Jun Shen
要旨

A silica microsphere suspension and a silica sol are employed in a two-step dipping process for the preparation of a superhydrophobic surface. It's not only a facile way to achieve the lotus effect, but can also create a multi-functional surface with different wetabilities, adhesive forces and transparencies.

材料
製品番号
ブランド
製品内容

Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in THF
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, reagent grade, ≥99%
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in THF
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in THF
Sigma-Aldrich
カリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, ReagentPlus®, 99.9%
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド, 97%
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in toluene
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.5 M in THF
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.5 M in toluene
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in hexanes
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 40% in THF
Supelco
ヘキサメチルジシラザン, for GC derivatization, LiChropur, ≥99.0% (GC)
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, produced by Wacker Chemie AG, Burghausen, Germany, ≥97.0% (GC)
Sigma-Aldrich
Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]yttrium
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.6 M in toluene
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in 2-methyltetrahydrofuran
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in tert-butyl methyl ether
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.5 M in 2-methyltetrahydrofuran
Sigma-Aldrich
トリス[N,N-ビス(トリメチルシリル)アミド]サマリウム(III), 98%