U211050

DMT-2'O-TBDMS-rU ホスホロアミダイト

configured for ÄKTA^® and OligoPilot^®

• 別名: 5'-O-［ビス（4-メトキシフェニル）フェニルメチル］-2'-O-［（1,1-ジメチルエチル）ジメチルシリル］-ウリジン, 3′-［2-シアノエチル N,N-ビス（1-メチルエチル）ホスホロアミダイト］, DMT-2'-O-TBDMS-rUアミダイト
• 実験式（ヒル表記法）: C₄₅H₆₁N₄O₉PSi
• CAS番号: 118362-03-1
• 分子量: 861.05
• MDL番号: MFCD00080343
• UNSPSCコード: 12352200
• PubChem Substance ID: 329827600
• NACRES: NA.51

特性

• 由来生物: non-animal source (no BSE/TSE risk)
• 品質水準: 300
• 製品種目: Proligo Reagents
• アッセイ: ≥99% (³¹P-NMR); ≥99.0% (reversed phase HPLC)
• 形状: powder
• テクニック: oligo synthesis: suitable
• 不純物: ≤0.3% water content (Karl Fischer); ≤0.5% P(III) Impurities 100-169ppm (³¹P-NMR); ≤0.5% single Impurity (reversed phase HPLC); ≤3% residual Solvent content
• 色: white to off-white
• λ: conforms (UV/VIS Identity)
• 適合性: conforms to structure for H-NMR; conforms to structure for LC-MS; configured for ÄKTA^® and OligoPilot^®
• 核酸プロファイル: base: uridine; base protecting group: none; 2' protecting group: TBDMS; 5' protecting group: DMT; deprotection: fast/standard
• 保管温度: −20°C
• SMILES記法: COc1ccc(cc1)C(OC[C@H]2O[C@H]([C@H](O[Si](C)(C)C(C)(C)C)[C@@H]2OP(OCCC#N)N(C(C)C)C(C)C)N3C=CC(=O)NC3=O)(c4ccccc4)c5ccc(OC)cc5
• InChI: 1S/C45H61N4O9PSi/c1-31(2)49(32(3)4)59(55-29-15-27-46)57-40-38(56-42(48-28-26-39(50)47-43(48)51)41(40)58-60(10,11)44(5,6)7)30-54-45(33-16-13-12-14-17-33,34-18-22-36(52-8)23-19-34)35-20-24-37(53-9)25-21-35/h12-14,16-26,28,31-32,38,40-42H,15,29-30H2,1-11H3,(H,47,50,51)/t38-,40-,41-,42-,59?/m1/s1
• InChI Key: SKNLXHRBXYGJOC-ZMHKPELYSA-N

詳細

詳細

RNAホスホロアミダイトは、RNA CPGおよびDNA合成用アナログとともにRNA干渉(RNAi)のための配列特異的RNAオリゴヌクレオチドの合成をサポートし、標的の検証やその他の薬剤開発技術に使用できます。最近のホスホロアミダイトを介した合成によって、RNAオリゴヌクレオチドを常に高収量で調製できるようになりました。高品質なRNAホスホロアミダイトは、低い失敗率、合成産物の高い生物学的活性、および良好な費用対効果を得るために重要です。主な特徴：

• 業界標準の2′O-TBDMS保護基
• 一貫したロットごとの純度および性能
• メチルアミンやAMAに基づく脱保護法に適合
• アクチベーターとしてETTまたはBTTとともに使用した場合、標準的なRNAホスホロアミダイトで優れたカップリング結果を達成：アクチベーター42で最善の結果
• 高速脱保護Cap Aではなく標準的な無水酢酸キャッピング試薬でキャッピング
• 認証されたISO 9001品質システムのもとで製造DMT-2′O-TBDMS-rUホスホロアミダイトは、ABI^™合成機用用に作製されています。

その他情報

RNAモノマーは2′-位にヒドロキシ基を持っています。鎖伸長中の不自然な2′-5′ホスホジエステル結合の形成を防ぐために、2′OH基はトリアルキルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル(TBDMS)で保護されています。TBDMS基は、合成サイクル中にDMT基を除去するために使用される酸性条件下では安定ですが、RNAオリゴマーの切断および脱保護後にさまざまな方 (例：テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)のテトラヒドロフラン(THF)溶液やトリエチルアミンフッ化水素酸など)で除去できます。

法的情報

ABI is a trademark of Applera Corporation or its subsidiaries in the US and/or certain other countries

OligoPilot is a registered trademark of Cytiva

ÄKTA is a registered trademark of Cytiva

安全性情報

• 保管分類コード: 11 - Combustible Solids
• WGK: WGK 3
• 引火点(°F): Not applicable
• 引火点(℃): Not applicable