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Merck

651834

Sigma-Aldrich

Nichrome etchant

standard

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About This Item

MDL番号:
UNSPSCコード:
12161700
NACRES:
NA.23

グレード

standard

組成

volatiles, 85%

clear yellow-orange

bp

100 °C/1 atm

密度

1.16 g/mL at 25 °C

詳細

Nichrome etchant is a high purity etching system that is a mixture of ceric ammonium nitrate and nitric acid. It can be used to etch the nickel and chromium alloy.

アプリケーション

硝酸セリウムアンモニウムベースのエッチング液。Al、Cr、Cu、Ni、GaAsをエッチングします。表面はSi、Ta/TaNを酸化します。40°Cでのエッチング速度は50 Å/秒です。必要な脱イオン水ですすぐだけできれいにエッチングします。
Nichrome etchant is used in the fabrication of microheater patterns of polydimethyl siloxane (PDMS), silica (SiO2) and glass substrates, which can be further used in the fabrication of flow sensors. It may also be used to etch out nickel (Ni) from the electroplated Ni on amorphous silica wafers.
For use at room temperature or elevated temperature. Etches cleanly, eliminating need for an intermediate rinse.

特徴および利点

Designed for etching nichrome thin films used in microelectronic applications. Compatible with both positive and negative photoresists and provides fine-line control with minimal undercutting. Filtered to 0.2 micron to remove particlulates and composed of semiconductor grade materials.

ピクトグラム

Flame over circleCorrosionExclamation markEnvironment

シグナルワード

Danger

危険有害性情報

危険有害性の分類

Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Ox. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Skin Sens. 1

補足的ハザード

保管分類コード

5.1B - Oxidizing hazardous materials

WGK

WGK 3

引火点(°F)

Not applicable

引火点(℃)

Not applicable


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

PRTR

第一種指定化学物質

消防法

第6類:酸化性液体
硝酸
危険等級I

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

651834-500ML:4548173954271
651834-BULK:
651834-VAR:


最新バージョンのいずれかを選択してください:

試験成績書(COA)

Lot/Batch Number

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以前この製品を購入いただいたことがある場合

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文書ライブラリにアクセスする

Simulation and feasibility study of flow sensor on flexible polymer for healthcare application.
Maji D and Das S
IEEE Transactions on Bio-Medical Engineering, 60(12), 3298-3305 (2013)
Perfectly plastic flow in silica glass.
Kermouche G, et al.
Acta Materialia, 114(12), 146-153 (2016)

プロトコル

Negative Photoresist Procedure

ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.

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