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Sigma-Aldrich

Dichlorodiisopropylsilane

≥97.0% (GC)

Sinonimo/i:

Diisopropyldichlorosilane

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About This Item

Formula empirica (notazione di Hill):
C6H14Cl2Si
Numero CAS:
7751-38-4
Peso molecolare:
185.17
Beilstein:
1736244
Numero MDL:
MFCD00054895
Codice UNSPSC:
12352001
ID PubChem:
329755681
NACRES:
NA.22

Livello qualitativo

100

Saggio

≥97.0% (GC)

Stato

liquid

Indice di rifrazione

n20/D 1.444

P. ebollizione

66 °C/27 mmHg (lit.)

Densità

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

Stringa SMILE

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3
GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Categorie correlate

Altre note

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"

Pittogrammi

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

H226,H314

Classi di pericolo

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Codice della classe di stoccaggio

3 - Flammable liquids

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

109.4 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

43 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number
BCCG9171
BCBW2351
BCBQ1629V
BCBJ8558V
BCBG4138V

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C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Il team dei nostri ricercatori vanta grande esperienza in tutte le aree della ricerca quali Life Science, scienza dei materiali, sintesi chimica, cromatografia, discipline analitiche, ecc..

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