Przejdź do zawartości
Merck

715166

Sigma-Aldrich

Octadecylphosphonic acid

97%

Synonim(y):

n-Octadecylphosphonic acid, ODPA

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Wzór empiryczny (zapis Hilla):
C18H39O3P
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
334.47
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352300
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23

Próba

97%

Postać

crystals

mp

95-100 °C

ciąg SMILES

CCCCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O

InChI

1S/C18H39O3P/c1-2-3-4-5-6-7-8-9-10-11-12-13-14-15-16-17-18-22(19,20)21/h2-18H2,1H3,(H2,19,20,21)

Klucz InChI

FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Octadecylphosphonic acid (OPA) is used as a self-assembled monolayer that forms a surfactant which strongly bonds with the surface atoms of different metal oxides. It provides hydrophobic properties and covers a higher surface area than the predominantly used silanes.

Zastosowanie

Anti-corrosive coatings on cupronickel (CuNi) can be formed by fabricating a protective film of OPA by dip coating method. OPA may be used in the preparation of indium oxide(In2O3) nanowire transistor than can find potential application in the growth of fast switching and low noise nano-electronic devices. It may be used for self-cleaning and oil/water separation based applications as it forms a superhydrophobic layer on the copper mesh.
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

Exclamation mark

Hasło ostrzegawcze

Warning

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2

Kod klasy składowania

11 - Combustible Solids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3


Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Fabrication of controllable and stable In2O3 nanowire transistors using an octadecylphosphonic acid self-assembled monolayer.
Lim T, et al.
Nanotechnology, 26(14), 145203-145203 (2015)
Modification of cupronickel alloy surface with octadecylphosphonic acid self-assembled films for improved corrosion resistance.
Mioc K, et al.
Corrosion Science, 134(10), 189-198 (2018)
Getachew Tizazu et al.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids, 25(18), 10746-10753 (2009-07-18)
Electron-hole pair formation at titania surfaces leads to the formation of reactive species that degrade organic materials. Here, we describe the degradation of self-assembled monolayers of alkylphosphonic acids on the native oxide of titanium following exposure to UV light. The
n-Octadecylphosphonic acid grafted mesoporous magnetic nanoparticle: Preparation, characterization, and application in magnetic solid-phase extraction.
Ding J, et al.
Journal of Chromatography A, 1217(47), 7351-7358 (2010)
Fast formation of superhydrophobic octadecylphosphonic acid (ODPA) coating for self-cleaning and oil/water separation.
Dai C, et al.
Soft Matter, 10(40), 8116-8121 (2014)

Produkty

There is widespread demand for thin, lightweight, and flexible electronic devices such as displays, sensors, actuators, and radio-frequency identification tags (RFIDs). Flexibility is necessary for scalability, portability, and mechanical robustness.

Self-assembled monolayers (SAMs) have attracted enormous interest for a wide variety of applications in micro- and nano-technology. In this article, we compare the benefits of three different classes of SAM systems (alkylthiolates on gold.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej