Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(2)

Key Documents

Inne dokumenty

697303

Sigma-Aldrich

Tris(tert-pentoxy)silanol

packaged for use in deposition systems

Synonim(y):

TPS

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(2)

About This Item

Wzór liniowy:
(CH3CH2C(CH3)2O)3SiOH
Numer CAS:
17906-35-3
Masa cząsteczkowa:
306.51
Numer MDL:
MFCD03427135
Kod UNSPSC:
12352300
Identyfikator substancji w PubChem:
329761907
NACRES:
NA.23

Próba

≥99.0% (GC)
≥99.99% (trace metals analysis)

Postać

liquid

tw

96-99 °C/2-3 mmHg (lit.)

gęstość

0.944 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

CCC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)CC)OC(C)(C)CC

InChI

1S/C15H34O4Si/c1-10-13(4,5)17-20(16,18-14(6,7)11-2)19-15(8,9)12-3/h16H,10-12H2,1-9H3

Klucz InChI

ORJFXWYTRPGGRK-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Atomic number of base material: 14 Silicon

Zastosowanie

Precursors Packaged for Depositions Systems
This page may contain text that has been machine translated.

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H413

Klasyfikacja zagrożeń

Aquatic Chronic 4

Kod klasy składowania

10 - Combustible liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

222.8 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

106 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Eyeshields, Gloves

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Alfredo Mirandola et al.
Medical physics, 42(9), 5287-5300 (2015-09-04)
To describe the dosimetric commissioning and quality assurance (QA) of the actively scanned proton and carbon ion beams at the Italian National Center for Oncological Hadrontherapy. The laterally integrated depth-dose-distributions (IDDs) were acquired with the PTW Peakfinder, a variable depth
G Magro et al.
Physics in medicine and biology, 60(17), 6865-6880 (2015-08-25)
This study was performed to evaluate the accuracy of a commercial treatment planning system (TPS), in optimising proton pencil beam dose distributions for small targets of different sizes (5-30 mm side) located at increasing depths in water. The TPS analytical
Meng Wu et al.
Journal of the Optical Society of America. A, Optics, image science, and vision, 32(9), 1707-1716 (2015-09-15)
Considering no previous literature reveals the effectiveness of image similarity coherent with corresponding illuminant in color constancy, we propose an edge-moment-based algorithm using regularized regression in an illumination-coherent space in a divide-and-conquer way. To represent the scene images, we adopt
Jasper L T Heerkens et al.
Poultry science, 94(9), 2008-2017 (2015-07-19)
Feather pecking and high mortality levels are significant welfare problems in non-cage housing systems for laying hens. The aim of this study was to identify husbandry-related risk factors for feather damage, mortality, and egg laying performance in laying hens housed
Hendrik Thoen et al.
Radiotherapy and oncology : journal of the European Society for Therapeutic Radiology and Oncology, 115(1), 16-21 (2015-03-31)
Neoadjuvant chemoradiotherapy is used prior to surgery in curative treatment of esophageal cancer (EC). We evaluated the in-field control of this multimodal treatment by extraction of radiation dose parameters and determination of the spatial relation between tumor recurrence location(s) and
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

The Savannah ALD System - An Excellent Tool for Atomic Layer Deposition

igma-Aldrich.com presents an article regarding the savannah ALD system - an excellent tool for atomic layer deposition.

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej