Przejdź do zawartości
Merck

394505

Sigma-Aldrich

Xenon difluoride

99.99% trace metals basis

Synonim(y):

Xenon Fluoride (XeF2)

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Wzór liniowy:
XeF2
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
169.29
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352300
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23

ciśnienie pary

3.8 mmHg ( 25 °C)

Poziom jakości

Próba

99.99% trace metals basis

Postać

crystals

mp

129 °C (lit.)

gęstość

4.32 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

F[Xe]F

InChI

1S/F2Xe/c1-3-2

Klucz InChI

IGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Xenon fluoride may be obtained by interacting elemental xenon and fluorine in the temperature range of 473-523 oC and 5 absolute atmosphere. Xenon difluoride readily interacts with Lewis acid and forms complexes.

Zastosowanie

Very useful fluorination agent. Xenon fluoride may be used as a fluorinating agent to analyze sulphur, selenium and tellurium by gas chromatography.

Opakowanie

Packaged in PFA/FEP bottles
This page may contain text that has been machine translated.

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 1 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Ox. Sol. 2 - Skin Corr. 1B

Kod klasy składowania

5.1B - Oxidizing hazardous materials

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Środki ochrony indywidualnej

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Use of Xenon difluoride for the determination of sulfur, selenium and tellurium as the volatile fluorides by gas chromatography
Aleinikov NN, et al.
Russian Chemical Bulletin, 22(11), 2552-2554 (1973)
Infrared spectra of complex compounds of xenon difluoride with ruthenium pentafluoride
Prusakov VN, et al.
Journal of Applied Spectroscopy, 17(1), 920-922 (1972)
Fluorination with XeF(2).(1) 44. Effect of Geometry and Heteroatom on the Regioselectivity of Fluorine Introduction into an Aromatic Ring.
Marko Zupan et al.
The Journal of organic chemistry, 63(3), 878-880 (2001-10-24)
Tsung Yi Chiang et al.
Journal of synchrotron radiation, 17(1), 69-74 (2009-12-24)
The synchrotron radiation (SR) stimulated etching of silicon elastomer polydimethylsiloxane (PDMS) using XeF(2) as an etching gas has been demonstrated. An etching system with differential pumps and two parabolic focusing mirrors was constructed to perform the etching. The PDMS was
Minseob Kim et al.
Nature chemistry, 2(9), 784-788 (2010-08-24)
The application of pressure, internal or external, transforms molecular solids into extended solids with more itinerant electrons to soften repulsive interatomic interactions in a tight space. Examples include insulator-to-metal transitions in O(2), Xe and I(2), as well as molecular-to-non-molecular transitions

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej