Passa al contenuto
Merck
Tutte le immagini(1)

Key Documents

648663

Sigma-Aldrich

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)

Sinonimo/i:

Diethylruthenocene

Autenticatiper visualizzare i prezzi riservati alla tua organizzazione & contrattuali


About This Item

Formula condensata:
C7H9RuC7H9
Numero CAS:
Peso molecolare:
287.36
Numero MDL:
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
NACRES:
NA.23

Forma fisica

liquid

Composizione

Ru, 33.9-36.4% gravimetric

Impiego in reazioni chimiche

core: ruthenium
reagent type: catalyst

Indice di rifrazione

n20/D 1.5870 (lit.)

P. eboll.

100 °C/0.01 mmHg (lit.)

Punto di fusione

6 °C (lit.)

Densità

1.3412 g/mL at 25 °C (lit.)

Temperatura di conservazione

−20°C

Stringa SMILE

[Ru].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3-6H,2H2,1H3;
VLTZUJBHIUUHIK-UHFFFAOYSA-N

Cerchi prodotti simili? Visita Guida al confronto tra prodotti

Applicazioni

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) (Ru(EtCp)2), a metal organic is used as an atomic layer deposition precursor for Ru thin filmsand well-aligned RuO2 nanorods.

Accessorio

N° Catalogo
Descrizione
Determinazione del prezzo

Pittogrammi

Exclamation mark

Avvertenze

Warning

Indicazioni di pericolo

Classi di pericolo

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

Organi bersaglio

Respiratory system

Codice della classe di stoccaggio

10 - Combustible liquids

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

>199.9 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

> 93.3 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


Scegli una delle versioni più recenti:

Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number

Non trovi la versione di tuo interesse?

Se hai bisogno di una versione specifica, puoi cercare il certificato tramite il numero di lotto.

Possiedi già questo prodotto?

I documenti relativi ai prodotti acquistati recentemente sono disponibili nell’Archivio dei documenti.

Visita l’Archivio dei documenti

I clienti hanno visto anche

Growth and characterization of the coexistence of vertically aligned and twinned V-shaped RuO2 nanorods on nanostructural TiO2 template
Chen CA, et al.
J. Alloy Compounds, 485(1-2), 524-528 (2009)
In-situ real-time ellipsometric investigations during the atomic layer deposition of ruthenium: A process development from [(ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl) ruthenium] and molecular oxygen.
Knaut M, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 30(1), 01A151-01A151 (2012)
ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems.
Waechtler T, et al.
Microelectronic Engineering, 88(5), 684-689 (2011)
Thermal atomic layer deposition (ALD) of Ru films for Cu direct plating.
Choi SH, et al.
Journal of the Electrochemical Society, 158(6), D351-D356 (2011)

Il team dei nostri ricercatori vanta grande esperienza in tutte le aree della ricerca quali Life Science, scienza dei materiali, sintesi chimica, cromatografia, discipline analitiche, ecc..

Contatta l'Assistenza Tecnica.