Precursori per deposizione da soluzione e da fase vapore
La deposizione da soluzione e la deposizione da fase vapore sono due vie di sintesi usate per la formazione di rivestimenti e di film sottili di precisione, avanzati. La deposizione da soluzione, nota anche come processo sol-gel, può essere utilizzata per preparare un ampio spettro di materiali compositi inorganici e ibridi a partire da precursori in soluzione. Dopo la generazione di sospensioni colloidali conosciute come “sol” e la loro deposizione, queste vengono convertite in gel e a seguire in solidi. La deposizione da fase vapore comprende una serie di tecniche tramite le quali i precursori o i materiali target sono convertiti ed impiegati in fase gassosa per la formazione di film ingegnerizzati su substrati solidi. La nostra raccolta di prodotti per tecniche di deposizione consente una precisa modulazione delle proprietà dei sottili film e rivestimenti risultanti. Indipendentemente dal metodo prescelto e dall’applicazione, tra la nostra ampia gamma di precursori affidabili e di alta qualità per deposizione di film troverai sicuramente quello che fa per te.
Precursori per deposizione chimica da soluzione
Offriamo un’ampia gamma di precursori per deposizione da soluzione con 55 diversi metalli in forma di acetato, acetilacetonato, tert-butossido, isopropossido, fenossido, etossido, tri-sec-butossido, metossido, 2-etilesanoato, tra gli altri. Per soddisfare ogni esigenza, questi prodotti sono offerti in varie purezze dal 90% al 99,999%, in diverse concentrazioni, svariati solventi e in specifiche forme idrate.
Precursori per deposizione chimica da fase vapore (CVD) e per deposizione a strato atomico (ALD)
Forniamo precursori organometallici volatili, precursori metallici e precursori metallorganici per CVD/ALD di alta qualità. Per comodità e sicurezza, essi sono preimballati in bombole di acciaio per l’utilizzo con un vasto assortimento di sistemi di deposizione.
Materiali per deposizione fisica da fase vapore
La deposizione fisica da fase vapore (PVD) utilizza materiali vaporizzati da un materiale sorgente solido o liquido (target) per depositare film sottili su un substrato. Offriamo target per sputtering, pellet, lamine metalliche e slug di alta qualità per varie applicazioni della PVD, inclusi dispositivi microelettronici, elettrodi per batterie, barriere di diffusione e rivestimenti ottici.
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