901623
Buffered oxide etchant (BOE) 6:1 with surfactant
Sinônimo(s):
BHF, Buffered HF
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About This Item
Código UNSPSC:
12161700
NACRES:
NA.23
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Formulário
liquid
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Descrição geral
Buffered oxide etchant (BOE) is a wet etchant used in microfabrication. Its primary use is in etching thin films of silicon dioxide (SiO2) or silicon nitride (Si3N4). It is a mixture of a buffering agent, such as ammonium fluoride (NH4F), and hydrofluoric acid (HF). Concentrated HF etches silicon dioxide too quickly for good process control and also peels photoresist used in lithographic patterning.
Aplicação
Buffered oxide etchant (BOE) 6:1 with surfactant may be used in the oxide removal of AlGaN/GaN-based high electron mobility transistors for gate photolithography. It may also be used in a buffer oxide etchant method for the fabrication of micro biochip.
Palavra indicadora
Danger
Frases de perigo
Declarações de precaução
Classificações de perigo
Acute Tox. 1 Dermal - Acute Tox. 2 Inhalation - Acute Tox. 2 Oral - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1A
Código de classe de armazenamento
6.1B - Non-combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials
Classe de risco de água (WGK)
WGK 2
Ponto de fulgor (°F)
Not applicable
Ponto de fulgor (°C)
Not applicable
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