773972
Yttrium sputtering target
diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.9% trace metals basis
Sinônimo(s):
Yttrium
About This Item
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Nível de qualidade
Ensaio
99.9% trace metals basis
forma
solid
adequação da reação
core: yttrium
resistividade
57 μΩ-cm, 20°C
diâmetro × espessura
2.00 in. × 0.25 in.
pb
3338 °C (lit.)
pf
1522 °C (lit.)
densidade
4.469 g/mL at 25 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
[Y]
InChI
1S/Y
chave InChI
VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N
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Aplicação
Yttrium sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing thin films also find applications as thermal barrier and protective coatings, example in thermoelectric devices.
Código de classe de armazenamento
11 - Combustible Solids
Classe de risco de água (WGK)
WGK 3
Ponto de fulgor (°F)
Not applicable
Ponto de fulgor (°C)
Not applicable
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