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Sigma-Aldrich

LUDOX® TMA colloidal silica

34 wt. % suspension in H2O

Sinônimo(s):

Silica preparation

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About This Item

Fórmula linear:
SiO2
Número CAS:
7631-86-9
Peso molecular:
60.08
Número MDL:
MFCD00011232
Código UNSPSC:
12352309
ID de substância PubChem:
24866358
NACRES:
NA.22

descrição

colloidal

Formulário

liquid

concentração

34 wt. % suspension in H2O

área da superfície

~140 m2/g

pH

4-7

densidade

1.23 g/mL at 25 °C

cadeia de caracteres SMILES

O=[Si]=O

InChI

1S/O2Si/c1-3-2

chave InChI

VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N

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Aplicação

LUDOX® TMA colloidal silica along with n-amylamine has been used as surface active particles to stabilize foams from drainage, coarsening and coalescence.
Other applications include:
  • Preparation of porous Bragg mirror and using it for flexible and biocompatible optical interference filters by infiltration of polydimethylsiloxane.
  • It acts as a filler and surfactant while preparing latexes by miniemulsion polymerization.
  • As a stabilizer for water-in-cyclohexane miniemulsions to form stable polyurethane shells via interfacial polyaddition.
  • Synthesis of organic-inorganic nanocomposite films from polyurethane dispersions and colloidal silica particles.

Características e benefícios

deionized

Informações legais

LUDOX is a registered trademark of W.R. Grace & Co.-Conn.

Pictogramas

Exclamation mark
GHS07

Palavra indicadora

Warning

Frases de perigo

H317,H412

Classificações de perigo

Aquatic Chronic 3 - Skin Sens. 1

Código de classe de armazenamento

12 - Non Combustible Liquids

Classe de risco de água (WGK)

WGK 2

Ponto de fulgor (°F)

Not applicable

Ponto de fulgor (°C)

Not applicable

Equipamento de proteção individual

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificados de análise (COA)

Lot/Batch Number
MKCP9895
MKCL1843
MKCG4597
MKCD2849
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Organic-inorganic nanocomposite films made from polyurethane dispersions and colloidal silica particles.
Serkis M, et al.
Composite Interfaces, 23(2), 157-173 (2016)
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Calvo ME and Mi?guez H.
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