Pular para o conteúdo
Merck
Todas as fotos(3)

Key Documents

296066

Sigma-Aldrich

Lithium dimethylamide

95%

Sinônimo(s):

Lithiodimethylamide

Faça loginpara ver os preços organizacionais e de contrato


About This Item

Fórmula linear:
(CH3)2NLi
Número CAS:
Peso molecular:
51.02
Beilstein:
3618233
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352111
ID de substância PubChem:
NACRES:
NA.22

Nível de qualidade

Ensaio

95%

forma

solid

cadeia de caracteres SMILES

[Li]N(C)C

InChI

1S/C2H6N.Li/c1-3-2;/h1-2H3;/q-1;+1

chave InChI

YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N

Procurando produtos similares? Visita Guia de comparação de produtos

Categorias relacionadas

Aplicação

Lithium dimethylamide is used as a reagent in the synthesis of boron-nitrogen heterocycles and 2,2′?diborabiphenyl. It is a deprotecting agent which is employed in demethylation of bis(imino)pyridine ferrous dichloride for synthesizing ferrous amide-ate complexes.

Pictogramas

FlameCorrosion

Palavra indicadora

Danger

Frases de perigo

Classificações de perigo

Pyr. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Código de classe de armazenamento

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

Classe de risco de água (WGK)

WGK 3

Equipamento de proteção individual

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Escolha uma das versões mais recentes:

Certificados de análise (COA)

Lot/Batch Number

Não está vendo a versão correta?

Se precisar de uma versão específica, você pode procurar um certificado específico pelo número do lote ou da remessa.

Já possui este produto?

Encontre a documentação dos produtos que você adquiriu recentemente na biblioteca de documentos.

Visite a Biblioteca de Documentos

Os clientes também visualizaram

Slide 1 of 3

1 of 3

2, 2′-Diborabiphenyl: A Lewis Acid Analogue of 2, 2′-Bipyridine.
Emslie DJH, et al.
Angewandte Chemie (International Edition in English), 115(11), 1290-1293 (2003)
Bis (imino) pyridine ligand deprotonation promoted by a transient iron amide.
Bouwkamp MW, et al.
Inorganic Chemistry, 45(1), 2-4 (2006)
Triphenylene analogues with B2N2C2 cores: synthesis, structure, redox behavior, and photophysical properties.
Jaska CA, et al.
Journal of the American Chemical Society, 128(33), 10885-10896 (2006)
Richard O'Donoghue et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 46(47), 16551-16561 (2017-11-22)
Herein we describe an efficient low temperature (60-160 °C) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process for gallium oxide (Ga
Lukas Mai et al.
Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany), 25(31), 7489-7500 (2019-03-15)
New precursor chemistries for the atomic layer deposition (ALD) of aluminium oxide are reported as potential alternatives to the pyrophoric trimethylaluminium (TMA) which is to date a widely used Al precursor. Combining the high reactivity of aluminium alkyls employing the

Nossa equipe de cientistas tem experiência em todas as áreas de pesquisa, incluindo Life Sciences, ciência de materiais, síntese química, cromatografia, química analítica e muitas outras.

Entre em contato com a assistência técnica