759562
Tris(dimethylamino)silane
packaged for use in deposition systems
Synonyme(s) :
Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS
About This Item
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Niveau de qualité
Pureté
≥99.9% (GC)
Forme
liquid
Point d'ébullition
142 °C (lit.)
Pf
−90 °C (lit.)
Densité
0.838 g/mL at 25 °C (lit.)
Chaîne SMILES
CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
Clé InChI
TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N
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Description générale
Application
- As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
- As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.
Mention d'avertissement
Danger
Mentions de danger
Classification des risques
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Risques supp
Code de la classe de stockage
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 3
Point d'éclair (°F)
16.0 - 32.0 °F - closed cup
Point d'éclair (°C)
-8.89 - 0.00 °C - closed cup
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