Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(2)

Key Documents

View All Documentation

469858

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV)

99.999% trace metals basis

Synonyme(s) :

TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(2)

About This Item

Formule linéaire :
[(CH3)2N]4Ti
Numéro CAS:
3275-24-9
Poids moléculaire :
224.17
Numéro CE :
221-904-3
Numéro MDL:
MFCD00014861
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
24870618
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

200

Pureté

99.999% trace metals basis

Forme

liquid

Pertinence de la réaction

core: titanium

Point d'ébullition

50 °C/0.5 mmHg (lit.)

Densité

0.947 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Clé InChI

MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Please inquire for bulk quantity, pricing, and packaging options.

Application

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) is a precursor to titanium nitride (TiN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD)and titanium dioxide thin films by atomic layer deposition (ALD).TDMAT undergoes exothermal reaction with excess cyclopentadiene to yield tris(dimethylamido)(η5-cyclopentadienyl)titanium(IV).

À utiliser avec

Réf. du produit
Description
Tarif

Pictogrammes

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H225,H260,H314

Classification des risques

Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Risques supp

EUH014

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

-22.0 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

-30 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
SHBP1947
SHBL6315
SHBL2751
SHBH9716
80197MM

Vous ne trouvez pas la bonne version ?

Si vous avez besoin d'une version particulière, vous pouvez rechercher un certificat spécifique par le numéro de lot.

Rechercher un(e) COA

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Slide 1 of 2

1 of 2

Titanium(IV) isopropoxide packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

687502

Titanium(IV) isopropoxide

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV) ≥99.99% trace metals basis

Sigma-Aldrich

553131

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV)

Tianshuo Zhao et al.
Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America, 118(7) (2021-02-10)
Semiconductors of narrow bandgaps and high quantum efficiency have not been broadly utilized for photocatalytic coevolution of H2 and O2 via water splitting. One prominent issue is to develop effective protection strategies, which not only mitigate photocorrosion in an aqueous
Microstructure and elastic properties of atomic layer deposited TiO 2 anatase thin films.
Borgese L, et al.
Acta Materialia, 59(7), 2891-2900 (2011)
Young modulus and Poisson ratio measurements of TiO 2 thin films deposited with atomic layer deposition.
Borgese L, et al.
Surface and Coatings Technology, 206(8), 2459-2463 (2012)
Improving performance via blocking layers in dye-sensitized solar cells based on nanowire photoanodes.
Li L, et al.
ACS Applied Materials & Interfaces, 7(23), 12824-12831 (2015)
Chemistry of Materials, 8, 2712-2712 (1996)
Afficher tous les articles scientifiques apparentés

Articles

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

Titanium dioxide (TiO2) is an important n-type semiconducting material that shows interesting characteristics such as photoswitchable surface wettability, high photocatalytic activity, bistable electrical resistance states and high electron drift mobility.

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells: Interface Engineering by Atomic Layer Deposition

Since the demonstration of the first practical solar cell 60 years ago, research on novel materials, improved solar cell design and structure, and innovative manufacturing processes have all contributed to a continuous increase in the efficiency of photovoltaic (PV) devices.

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

A Review of Mesoporous TiO2 Thin Films

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique