Key Documents
774022
Yttrium(III) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.99% trace metals basis
Synonim(y):
Yttria
About This Item
Polecane produkty
Próba
99.99% trace metals basis
Postać
powder
przydatność reakcji
core: yttrium
śr. × grubość
2.00 in. × 0.25 in.
mp
2410 °C (lit.)
gęstość
5.01 g/mL at 25 °C (lit.)
ciąg SMILES
O=[Y]O[Y]=O
InChI
1S/3O.2Y
Klucz InChI
SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Zastosowanie
Yttrium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing films are used as thermal barrier and protective coatings in thermoelectric devices, rare earth doped yttrium oxide films are studied for phosphor applications.
Kod klasy składowania
13 - Non Combustible Solids
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 1
Temperatura zapłonu (°F)
Not applicable
Temperatura zapłonu (°C)
Not applicable
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Certyfikaty analizy (CoA)
Nie widzisz odpowiedniej wersji?
Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
Produkty
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Spin-based electronic (spintronic) devices offer significant improvement to the limits of conventional charge-based memory and logic devices which suffer from high power usage, leakage current, performance saturation, and device complexity.
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej