추천 제품
vapor density
1.3 (vs air)
Quality Level
애플리케이션
CE-200 solution can be used to etch out the copper residue or foil from the chemical vapor deposited (CVD) graphene or carbonated films by immersing the substrate with the nanomaterial into the etchant solution for 30 min.
It is ideal for spray etching of copper. Ferric chloride based Cu etchant with etch rate of 0.5 mil/min @ 40 °C.
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Irrit. 2
Storage Class Code
8B - Non-combustible, corrosive hazardous materials
WGK
WGK 1
Flash Point (°F)
Not applicable
Flash Point (°C)
Not applicable
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
시험 성적서(COA)
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