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Merck
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667528

Sigma-Aldrich

Copper etchant

동의어(들):

Copper etching solution

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About This Item

MDL number:
UNSPSC 코드:
12352300
NACRES:
NA.23

vapor density

1.3 (vs air)

Quality Level

애플리케이션

CE-200 solution can be used to etch out the copper residue or foil from the chemical vapor deposited (CVD) graphene or carbonated films by immersing the substrate with the nanomaterial into the etchant solution for 30 min.
It is ideal for spray etching of copper. Ferric chloride based Cu etchant with etch rate of 0.5 mil/min @ 40 °C.

픽토그램

Corrosion

신호어

Danger

유해 및 위험 성명서

Hazard Classifications

Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1

Storage Class Code

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 1

Flash Point (°F)

Not applicable

Flash Point (°C)

Not applicable

개인 보호 장비

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Microbial colonisation of transparent glass-like carbon films triggered by a reversible radiation-induced hydrophobic to hydrophilic transition
Jalvo B, et al.
Royal Society of Chemistry Advances, 6(55), 50278-50287 (2016)
The effect of copper pre-cleaning on graphene synthesis
Kim SM, et al.
Nanotechnology, 24(36), 365602-365602 (2013)
Copper etching with cupric chloride and regeneration of waste etchant
Cakir O
Journal of Materials Processing Technology, 175(1-3), 63-68 (2006)

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