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Ceramic Etchant A
Sinonimo/i:
Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant
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About This Item
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Livello qualitativo
Applicazioni
Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).
Caratteristiche e vantaggi
Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Avvertenze
Danger
Indicazioni di pericolo
Consigli di prudenza
Classi di pericolo
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
Codice della classe di stoccaggio
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
WGK 1
Punto d’infiammabilità (°F)
Not applicable
Punto d’infiammabilità (°C)
Not applicable
Dispositivi di protezione individuale
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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