跳转至内容
Merck

651788

Sigma-Aldrich

负性光致抗蚀剂显影剂 I

登录查看公司和协议定价


About This Item

分類程式碼代碼:
12352300
NACRES:
NA.23

品質等級

bp

129-138 °C (lit.)

密度

0.89 g/mL at 25 °C (lit.)

儲存溫度

2-8°C

一般說明

作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供

訊號詞

Danger

危險分類

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

標靶器官

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

儲存類別代碼

3 - Flammable liquids

水污染物質分類(WGK)

WGK 2

閃點(°F)

78.8 °F - closed cup

閃點(°C)

26 °C - closed cup

個人防護裝備

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


从最新的版本中选择一种:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number

没有发现合适的版本?

如果您需要特殊版本,可通过批号或批次号查找具体证书。

已有该产品?

在文件库中查找您最近购买产品的文档。

访问文档库

实验方案

Our photoresist kit was designed to have the necessary chemical components for each step in the lithographic process. The component materials are provided in pre-weighed quantities for your convenience. Etchants are available separately so that the proper etchant can be chosen for a variety of substrate choices.

我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.

联系技术服务部门