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二羟基硅酞菁

Dye content 75 %

• 别名: 二羟基硅酞菁, 二羟基（酞菁）硅
• 经验公式（希尔记法）: C₃₂H₁₈N₈O₂Si
• CAS号: 19333-15-4
• 分子量: 574.62
• MDL號碼: MFCD00192439
• 分類程式碼代碼: 12352103
• PubChem物質ID: 57650008
• NACRES: NA.23

属性

• 形狀: solid
• 成份: Dye content, 75%
• λmax: 672 nm
• SMILES 字串: O[Si]1(O)n2c3nc4nc(nc5n1c(nc6nc(nc2c7ccccc37)c8ccccc68)c9ccccc59)c%10ccccc4%10
• InChI: 1S/C32H18N8O2Si/c41-43(42)39-29-21-13-5-6-14-22(21)31(39)37-27-19-11-3-4-12-20(19)28(34-27)38-32-24-16-8-7-15-23(24)30(40(32)43)36-26-18-10-2-1-9-17(18)25(33-26)35-29/h1-16,41-42H/b35-25-,35-29-,36-26-,36-30-,37-27-,37-31-,38-28-,38-32-
• InChI 密鑰: IKEIGECHKXPQKT-GMKHRMEJSA-N

说明

應用

• 掺杂半导体基二羟基硅酞菁和二炔酸（dienynoic acid）的结构确定、表征和计算研究：该论文探索了二羟基硅酞菁的化学掺杂及其与二炔酸的相互作用（Vergara et al., 2024）。
• 硅（IV）酞菁包埋的聚（乙烯醇）基抗菌和抗污界面的简易制备：该论文重点探讨了抗菌和抗污界面中二羟基硅酞菁的制备和应用（Strokov et al., 2020）。
• … 乙氧基取代的以及辅助性（4-苯基哌嗪-1-基）丙烷氧基二取代的硅酞菁及其电化学性质：该论文详细介绍了二羟基硅酞菁及其衍生物的合成和电化学性质（Biyiklioglu and Alp, 2015）。
• 用于光电应用的甲基氢氧化硅酞菁掺杂的PVA膜：该论文考察了用于光电应用的掺杂PVA膜中甲基氢氧化硅酞菁的性质（Qashou et al., 2019）。

安全信息

• 象形圖: GHS07
• 訊號詞: Warning
• 危險聲明: H315,H319,H335
• 防範說明: P261 - P264 - P271 - P280 - P302 + P352 - P305 + P351 + P338
• 危險分類: Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
• 標靶器官: Respiratory system
• 儲存類別代碼: 11 - Combustible Solids
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 3
• 閃點（°F）: Not applicable
• 閃點（°C）: Not applicable
• 個人防護裝備: dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves