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NIST2133

Phosphorus implant in silicon depth profile standard

NIST® SRM® 2133

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About This Item

Código UNSPSC:
41116107
NACRES:
NA.24

grau

certified reference material

Nível de qualidade

100

embalagem

pkg of each

fabricante/nome comercial

NIST®

aplicação(ões)

semiconductor

Formato

matrix material

Descrição geral

The SRM contains a single crystal silicon substrate measuring 1 cm × 1 cm, which is ion-implanted with the isotope 31P at a nominal energy of 100 keV.

SRM 2133_cert

SRM 2133_SDS

Aplicação

The SRM is intended to calibrate the secondary ion response for minor and trace concentrations of phosphorus within a silicon matrix using the secondary ion mass spectrometry (SIMS) method.

Características e benefícios

  • Available with certificate documenting NIST-certified retained dose of 31P atoms which is obtained through radiochemical neutron activation analysis (RNAA).
  • The NIST certificate is provided with expiration certificate, storage, handling, use, and maintenance instructions.

Outras notas

Example analytes are listed below as a reference. Please download a current certificate at nist.gov/SRM for current analytes and certified values.
Phosphorus (31P)

Informações legais

NIST is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology
SRM is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology

Código de classe de armazenamento

13 - Non Combustible Solids

Classe de risco de água (WGK)

WGK 3

Ponto de fulgor (°F)

Not applicable

Ponto de fulgor (°C)

Not applicable

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