774022
Yttrium(III) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.99% trace metals basis
Sinônimo(s):
Yttria
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Ensaio
99.99% trace metals basis
Formulário
powder
adequação da reação
core: yttrium
diâmetro × espessura
2.00 in. × 0.25 in.
pf
2410 °C (lit.)
densidade
5.01 g/mL at 25 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
O=[Y]O[Y]=O
InChI
1S/3O.2Y
chave InChI
SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N
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Aplicação
Yttrium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing films are used as thermal barrier and protective coatings in thermoelectric devices, rare earth doped yttrium oxide films are studied for phosphor applications.
Código de classe de armazenamento
13 - Non Combustible Solids
Classe de risco de água (WGK)
WGK 1
Ponto de fulgor (°F)
Not applicable
Ponto de fulgor (°C)
Not applicable
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