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Merck

127663

Sigma-Aldrich

3-Nitrobenzoylchlorid

98%

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

Lineare Formel:
O2NC6H4COCl
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
185.56
Beilstein:
777186
EG-Nummer:
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352100
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.22

Assay

98%

Form

solid

bp

275-278 °C (lit.)

mp (Schmelzpunkt)

31-34 °C (lit.)

Funktionelle Gruppe

acyl chloride
nitro

SMILES String

[O-][N+](=O)c1cccc(c1)C(Cl)=O

InChI

1S/C7H4ClNO3/c8-7(10)5-2-1-3-6(4-5)9(11)12/h1-4H

InChIKey

NXTNASSYJUXJDV-UHFFFAOYSA-N

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Anwendung

3-Nitrobenzoyl chloride was used in the synthesis of 3-aminobenzamide. It was also used to synthesize potential carbocyclic minor groove binders.

Piktogramme

CorrosionExclamation mark

Signalwort

Danger

H-Sätze

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Dermal - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Lagerklassenschlüssel

8A - Combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

>233.6 °F

Flammpunkt (°C)

> 112 °C

Persönliche Schutzausrüstung

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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B W Durkacz et al.
European journal of biochemistry, 121(1), 65-69 (1981-12-01)
DNA damage and repair was assayed by the loss and restoration of DNA supercoiling in nucleoids. This technique was used to assess the effects of inhibition of (ADP-ribose)n biosynthesis by 3-aminobenzamide on the capacity to repair DNA of mouse leukaemia
Danuta Bartulewicz et al.
Farmaco (Societa chimica italiana : 1989), 59(3), 211-214 (2004-02-28)
New carbocyclic potential minor groove binders were synthesised, using 3-nitrobenzoyl chloride and aliphatic alpha,omega-diamines with three, four and five methylene fragments. The half structures, compounds IV-VI can be compared to bis-amidines, compounds X-XII to bis-netropsin. All of the compounds were
Meng-Ge Huangfu et al.
Nanomaterials (Basel, Switzerland), 11(2) (2021-03-07)
The rapid development of advanced high-frequency mobile communication techniques has advanced urgent requirements for polymer materials with high-temperature resistance and good dielectric properties, including low dielectric constants (low-Dk) and low dielectric dissipation factors (low-Df). The relatively poor dielectric properties of

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