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品質等級
形狀
liquid
折射率
n20/D 1.498 (lit.)
bp
117 °C (lit.)
mp
−28 °C (lit.)
密度
1.205 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES 字串
CC[Zn]CC
InChI
1S/2C2H5.Zn/c2*1-2;/h2*1H2,2H3;
InChI 密鑰
HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N
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一般說明
應用
訊號詞
Danger
危險分類
Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
安全危害
儲存類別代碼
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
水污染物質分類(WGK)
WGK 3
閃點(°F)
Not applicable
閃點(°C)
Not applicable
個人防護裝備
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Molecular Layer Deposition of Organic and Hybrid Organic-Inorganic Polymers
igma-Aldrich.com presents an article regarding the savannah ALD system - an excellent tool for atomic layer deposition.
Since the demonstration of the first practical solar cell 60 years ago, research on novel materials, improved solar cell design and structure, and innovative manufacturing processes have all contributed to a continuous increase in the efficiency of photovoltaic (PV) devices.
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