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四（二甲基氨基）铪 (Ⅳ)

≥99.99%

• 别名: TDMAH, 四(二甲胺基)铪(IV)
• 线性分子式: [(CH₃)₂N]₄Hf
• CAS号: 19782-68-4
• 分子量: 354.79
• MDL號碼: MFCD01862473
• 分類程式碼代碼: 12352103
• PubChem物質ID: 24869038
• NACRES: NA.23

属性

• 品質等級: 100
• 化驗: ≥99.99%
• 形狀: low-melting solid
• 反應適用性: core: hafnium
• mp: 26-29 °C (lit.)
• 密度: 1.098 g/mL at 25 °C
• SMILES 字串: CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
• InChI: 1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
• InChI 密鑰: ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

说明

一般說明

四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物，由中心的铪原子（Hf） 和周围的四个二甲基氨基配体（NMe₂）组成。通常用作CVD/ALD前=体， 生产高质量的Hf薄膜 。它是一种低熔点 固体。

應用

四(二甲基氨基)铪(IV)可用于：

• 作为原子层沉积（ALD）前驱体，沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。
• 作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。
• 使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)₃]前驱体和H₂O，通过ALD法在Ge衬底上制备HfO₂、CeO₂和Ce掺杂HfO₂薄膜。
• 在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf₃N₄薄膜。

分析報告

纯度：锆含量低于 ~2000ppm。

安全信息

• 象形圖: GHS02,GHS05
• 訊號詞: Danger
• 危險聲明: H228,H261,H314
• 防範說明: P210 - P231 + P232 - P280 - P305 + P351 + P338 - P310 - P422
• 危險分類: Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
• 安全危害: EUH014
• 儲存類別代碼: 4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 3
• 個人防護裝備: Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges