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Merck

767492

Sigma-Aldrich

ケイ素

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.999% trace metals basis

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About This Item

化学式:
Si
CAS番号:
分子量:
28.09
EC Number:
MDL番号:
UNSPSCコード:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

アッセイ

99.999% trace metals basis

形状

solid

反応適合性

core: silicon

直径×厚み

2.00 in. × 0.25 in.

bp

2355 °C (lit.)

mp

1410 °C (lit.)

密度

2.33 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES記法

[Si]

InChI

1S/Si

InChI Key

XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N

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アプリケーション

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. The extreme miniaturization of components in the semiconductor and electronics industry requires high purity sputtering targets for thin film deposition

保管分類コード

13 - Non Combustible Solids

WGK

WGK 3

引火点(°F)

Not applicable

引火点(℃)

Not applicable


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

767492-1EA:
767492-VAR:
767492-BULK:


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資料

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