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Merck

654892

Sigma-Aldrich

Aldrich®ネガティブフォトレジストキットI

別名:

Aldrich® Negative Photoresist Kit I

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About This Item

UNSPSCコード:
12352300
NACRES:
NA.23

詳細

Aldrich® Negative Photoresist Kit Iは、フォトリソグラフィー用の材料で構成されています。フォトレジストは、電極アレイの生成のためにガラス基板上にスピンコーティングできます。また、本キットを使用すれば、ガラス表面のマスキングとパターニングもできます。

アプリケーション

Aldrich® Negative Photoresist Kit Iは、フォトリソグラフィーによる微小電極の製作に使用されています。液滴ベースのマイクロ流体デバイス、マイクロ流体チップ、ガラス光導波路、および統合グレーティングカプラの製作にも使用できます。

法的情報

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

キットの構成要素は別途購入可能です。

製品番号
詳細
SDS

  • 651761Negative resist remover I 250 mLSDS

  • 651788Negative resist developer I 250 mLSDS

  • 651796Negative photoresist I 100 mLSDS

  • 651974Negative resist thinner I 100 mLSDS

ピクトグラム

Health hazardCorrosionExclamation markEnvironment

シグナルワード

Danger

危険有害性の分類

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Repr. 1B - Skin Corr. 1 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

ターゲットの組織

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

保管分類コード

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

引火点(°F)

Not applicable

引火点(℃)

Not applicable


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

毒物及び劇物取締法

キットコンポーネントの情報を参照してください

PRTR

キットコンポーネントの情報を参照してください

消防法

キットコンポーネントの情報を参照してください

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

キットコンポーネントの情報を参照してください

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

キットコンポーネントの情報を参照してください

カルタヘナ法

キットコンポーネントの情報を参照してください

Jan Code

キットコンポーネントの情報を参照してください


最新バージョンのいずれかを選択してください:

試験成績書(COA)

Lot/Batch Number

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以前この製品を購入いただいたことがある場合

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Fabrication and characterization of optical waveguides and grating couplers
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A compact 3D-printed interface for coupling open digital microchips with Venturi easy ambient sonic-spray ionization mass spectrometry
Hu J, et al.
Analyst, 140(5), 1495-1501 (2015)
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J P Sharpe, et al.
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High-speed droplet actuation on single-plate electrode arrays
Banerjee AN, et al.
Journal of Colloid and Interface Science, 362(2), 567-574 (2011)

プロトコル

Negative Photoresist Procedure

ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.

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