759414
tetra-etil ortosilicato
packaged for use in deposition systems
Sinonimo/i:
Estere tetraetilico dell’acido ortosilicico, TEOS, tetra-etossi-silano
About This Item
Prodotti consigliati
Densità del vapore
7.2 (vs air)
Tensione di vapore
<1 mmHg ( 20 °C)
Saggio
≥99.5% (GC)
Forma fisica
liquid
Indice di rifrazione
n20/D 1.382 (lit.)
P. eboll.
168 °C (lit.)
Densità
0.933 g/mL at 20 °C (lit.)
Stringa SMILE
CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
InChI
1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
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Applicazioni
- Si oxide
- Oxycarbide
- Doped silicate
- Silanol
- Siloxane polymer
- Organosilicon thin films
The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
Avvertenze
Warning
Indicazioni di pericolo
Consigli di prudenza
Classi di pericolo
Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
Organi bersaglio
Respiratory system
Codice della classe di stoccaggio
3 - Flammable liquids
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
WGK 1
Punto d’infiammabilità (°F)
113.0 °F - closed cup
Punto d’infiammabilità (°C)
45 °C - closed cup
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