Passa al contenuto
Merck
Tutte le immagini(1)

Documenti fondamentali

Visualizza tutta la documentazione

698431

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)tin (IV)

99.9% trace metals basis

Sinonimo/i:

Tin (IV) dimethylamide

Autenticatiper visualizzare i prezzi riservati alla tua organizzazione & contrattuali
Tutte le immagini(1)

About This Item

Formula condensata:
[(CH3)2N]4Sn
Numero CAS:
1066-77-9
Peso molecolare:
295.01
Numero MDL:
MFCD00014860
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
329761254
NACRES:
NA.23

Livello qualitativo

100

Saggio

99.9% trace metals basis

Stato

liquid

Impiego in reazioni chimiche

core: tin

Stringa SMILE

CN(C)[Sn](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
WHXTVQNIFGXMSB-UHFFFAOYSA-N

Cerchi prodotti simili? Visita Guida al confronto tra prodotti

Categorie correlate

Descrizione generale

Atomic number of base material: 50 Tin

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

H225,H302 + H312 + H332,H314

Classi di pericolo

Acute Tox. 4 Oral - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B

Codice della classe di stoccaggio

3 - Flammable liquids

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

18.0 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

-7.8 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Faceshields, Gloves, Goggles

Scegli una delle versioni più recenti:

Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number
SHBP0562
SHBM6762
SHBM1031
SHBL0791
SHBK8559

Non trovi la versione di tuo interesse?

Se hai bisogno di una versione specifica, puoi cercare il certificato tramite il numero di lotto.

Cerca un COA

Possiedi già questo prodotto?

I documenti relativi ai prodotti acquistati recentemente sono disponibili nell’Archivio dei documenti.

Visita l’Archivio dei documenti

I clienti hanno visto anche

Slide 1 of 1

1 of 1

Tetravinyltin 97%

Sigma-Aldrich

328669

Tetravinyltin

Sarai García-García et al.
Chemical science, 10(7), 2171-2178 (2019-03-19)
Atomic layer deposition is a chemical deposition technology that provides ultimate control over the conformality of films and their thickness, even down to Ångström-scale precision. Based on the marked superficial character and gas phase process of the technique, metal sources
Hao-Cheng Yang et al.
ACS nano, 12(8), 8678-8685 (2018-08-15)
Crude oil fouling on membrane surfaces is a persistent, crippling challenge in oil spill remediation and oilfield wastewater treatment. In this research, we present how a nanosized oxide coating can profoundly affect the anti-crude-oil property of membrane materials. Select oxide
Yasemin Saygili et al.
Chemphyschem : a European journal of chemical physics and physical chemistry, 19(11), 1363-1370 (2018-04-27)
In perovskite solar cells (PSCs), the most commonly used hole transport material (HTM) is spiro-OMeTAD, which is typically doped by metalorganic complexes, for example, based on Co, to improve charge transport properties and thereby enhance the photovoltaic performance of the
Benjamin Lamm et al.
ChemSusChem, 12(9), 1916-1924 (2018-12-21)
Bismuth vanadate (BiVO4 ) is promising for solar-assisted water splitting. The performance of BiVO4 is limited by charge separation for >70 nm films or by light harvesting for <700 nm films. To resolve this mismatch, host-guest architectures use thin film coatings on

Articoli

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Global Trade Item Number

SKUGTIN
698431-1G4061832794082
698431-5G4061838632821

Il team dei nostri ricercatori vanta grande esperienza in tutte le aree della ricerca quali Life Science, scienza dei materiali, sintesi chimica, cromatografia, discipline analitiche, ecc..

Contatta l'Assistenza Tecnica.