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Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)

packaged for use in deposition systems

Sinonimo/i:

TDMAH, Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)

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About This Item

Formula condensata:
[(CH3)2N]4Hf
Numero CAS:
Peso molecolare:
354.79
Numero MDL:
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
NACRES:
NA.23

Saggio

≥99.99% (trace metals analysis)

Forma fisica

low-melting solid

Impiego in reazioni chimiche

core: hafnium

Punto di fusione

26-29 °C (lit.)

Densità

1.098 g/mL at 25 °C

Stringa SMILE

CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N

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Descrizione generale

Alkyl amides of Hafnium provide a convenient and effective atomic layer deposition precursor to smooth and and amorphous hafnium oxide thin films.

Applicazioni

Used as precursor for atomic layer deposition of Hafnium Oxide nanolaminates, which are used as a reploacement for Silicon oxide in semiconductor devices.

Pittogrammi

FlameCorrosion

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

Classi di pericolo

Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Rischi supp

Codice della classe di stoccaggio

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

109.4 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

43 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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