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描述
Conductivity: 10-3-10-4 S/cm
Work function: 3.6 ± 0.1 eV
品質等級
形狀
liquid (dispersion)
薄層電阻
10-20 Ω/sq (in combination with silver nanowires)
顏色
slightly yellow to clear
表面張力
23 mN/m±5 mN/m
黏度
<4 mPa.s(20 °C)
容量
≥0.9 % loading (Nanoparticles loading)
一般說明
为印刷电子设备开发的Helios'Ink H-DZ41006半导体墨水特别适用于OPV和PV。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能,并且兼容各种柔性基质(Kapton,®PET,PET/ITO等),但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度,并且对电导率和透明度无负面影响,从而显著改善了设备性能。同时,还增加了设备的使用寿命。
Helios'Ink H-DZ41006的使用为ETL层提供了高性能。 此外,与标准ETL相比,即使是更大厚度也不保留PCE。
这种墨水在旋涂和狭缝挤压式涂布方面具有很好的性能,并且兼容各种柔性基质(Kapton,®PET,PET/ITO等),但也兼容玻璃/ITO。
Helios'Ink H-DZ41006半导体油墨能够降低TCE的粗糙度,并且对电导率和透明度无负面影响,从而显著改善了设备性能。同时,还增加了设备的使用寿命。
Helios'Ink H-DZ41006的使用为ETL层提供了高性能。 此外,与标准ETL相比,即使是更大厚度也不保留PCE。
特點和優勢
产品优势:
- 在大气条件下(温度和压力)易于沉积。
- 良好的光学性能(可见光透射率>90%)。
- 非CMR墨水。
- 与ITO层和Ag NWs层兼容。
- 与大多数柔性基质兼容。
- 较低的干燥温度,可以在柔性基质上印刷。
準備報告
一般处理指南:
可以在超声波浴中均质处理5分钟,除去所有聚集物。
干燥条件:烘箱,红外烘箱,真空烘箱。
清洁溶液:乙醇/丙酮。
可以在超声波浴中均质处理5分钟,除去所有聚集物。
干燥条件:烘箱,红外烘箱,真空烘箱。
清洁溶液:乙醇/丙酮。
法律資訊
Genes′Ink的产品。
Kapton is a registered trademark of E. I. du Pont de Nemours and Company
訊號詞
Danger
危險分類
Aquatic Chronic 3 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - STOT SE 3
標靶器官
Central nervous system
儲存類別代碼
3 - Flammable liquids
水污染物質分類(WGK)
WGK 1
閃點(°F)
58.1 °F
閃點(°C)
14.5 °C
商品
Professor Tokito and Professor Takeda share their new materials, device architecture design principles, and performance optimization protocols for printed and solution-processed, low-cost, highly flexible, organic electronic devices.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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