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蒸汽密度
7 (vs air)
蒸汽壓力
0.02 mmHg ( 25 °C)
化驗
≥99%
形狀
flakes
bp
266 °C (lit.)
mp
79-81 °C (lit.)
溶解度
ethanol: soluble 100 mg/mL, clear, colorless
官能基
acyl chloride
SMILES 字串
ClC(=O)c1ccc(cc1)C(Cl)=O
InChI
1S/C8H4Cl2O2/c9-7(11)5-1-2-6(4-3-5)8(10)12/h1-4H
InChI 密鑰
LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N
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一般說明
應用
法律資訊
訊號詞
Danger
危險聲明
危險分類
Acute Tox. 3 Inhalation - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1A - STOT SE 3
標靶器官
Respiratory system
儲存類別代碼
6.1A - Combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials
水污染物質分類(WGK)
WGK 1
閃點(°F)
356.0 °F - closed cup
閃點(°C)
180 °C - closed cup
個人防護裝備
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
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Atomic layer deposition (ALD) techniques have emerged in the last ten years to meet various needs including semiconductor device miniaturization, conformal deposition on porous structures and coating of nanoparticles. ALD is based on two sequential self-limiting surface reactions.
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