Saltar al contenido
Merck

669008

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV)

packaged for use in deposition systems

Sinónimos:

TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización


About This Item

Fórmula lineal:
[(CH3)2N]4Ti
Número de CAS:
Peso molecular:
224.17
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352103
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23

Nivel de calidad

Análisis

99.999% (trace metals analysis)

formulario

liquid

idoneidad de la reacción

core: titanium

bp

50 °C/0.5 mmHg (lit.)

densidad

0.947 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Clave InChI

MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

Descripción general

Atomic number of base material: 22 Titanium

Aplicación

The product is a precursor for the deposition of titanium dioxide thin films by atomic layer deposition with water. Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) undergoes exothermal reaction with excess cyclopentadiene to yield tris(dimethylamido)(η5-cyclopentadienyl)titanium(IV).

Pictogramas

FlameCorrosion

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Riesgos supl.

Código de clase de almacenamiento

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

-22.0 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

-30 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Elija entre una de las versiones más recientes:

Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number

¿No ve la versión correcta?

Si necesita una versión concreta, puede buscar un certificado específico por el número de lote.

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Mikami K, et al. et al.
Science of Synthesis: Houben-Weyl Methods of Molecular Transformations, 2, 494-494 (2014)
Journal of Applied Physics, 102, 083521/1-083521/1 (2007)
Matthew T McDowell et al.
ACS applied materials & interfaces, 7(28), 15189-15199 (2015-06-18)
Light absorbers with moderate band gaps (1-2 eV) are required for high-efficiency solar fuels devices, but most semiconducting photoanodes undergo photocorrosion or passivation in aqueous solution. Amorphous TiO2 deposited by atomic-layer deposition (ALD) onto various n-type semiconductors (Si, GaAs, GaP

Artículos

igma-Aldrich.com presents an article regarding the savannah ALD system - an excellent tool for atomic layer deposition.

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells: Interface Engineering by Atomic Layer Deposition

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Ver todo

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico